性能直追国际标杆，全国产半导体可期！我国新一代光刻机模型亮相

格隆汇11月11日｜据快科技，在进博会上，上海微电子装备集团（SMEE）携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800（模型）亮相中国馆，正式对外展示我国前道光刻装备自主化的最新阶段性成果。这次展出的模型采用透明剖视设计，直观呈现整机光学光路与内部机电系统的链路布局。对于光刻机这类高度复杂的尖端工业装备而言，剖视模型的意义就在于让外界得以一窥原本高度保密的内部结构，光的传输路径、机电系统的协同逻辑全部一目了然。

SMEE介绍，该平台是完全自主搭建的国产标准化前道光刻装备架构，适配I-line、KrF两类主流技术路线。整机核心的高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统、高精度对准调平传感系统均实现全链条自主可控，具备稳定的工艺适配能力与产线运行可靠性。换句话说，从光学到机电、从传输到对准，所有影响设备核心性能的关键环节全部掌握在自己手中，不存在外部供应链卡脖子的风险。

在售的SSC800系列KrF与SSB800系列I-line机型，基于自研双工件台平台打造，均搭载国产自主大NA物镜，关键曝光成像指标对标国际标杆，其中SSC800整体性能跻身全球行业第一梯队。这意味着国产干式光刻机早已跨过了“能用”的入门门槛，在核心指标上已经站到了可以和国际领先产品同台比拼的位置。

有行业资深人士表示，随着前道光刻装备这一最核心的短板被逐步补齐，真正的全国产半导体时代很快就要到来，国内整个芯片制造产业链的自主化迭代速度，也会随之迈入全新的快车道。